台KHA-75-1型光刻机，与世界尖端水平差距缩短到5年内。
1985年，国内新型分步式光刻机试验机通过验收，经专家鉴定，其性能逼近M国光刻机巨头GCA公司4800DSW型光刻机的水平。
值得一提的是，这是Z国第一台分步投影式光刻机，虽不像一些资料中描述的那般“领先世界”，但它却让国内在光刻机领域紧紧咬住了世界第一梯队的步伐，与顶端的差距最多只有七八年。
至此，Z国光刻机技术发展史已然抵达顶点，但谁又能想到，它竟也成了一个辉煌时代的落幕？
随着大开放的深入，Z国以积极的姿态融入世界，扑面而来的巨大机遇中也夹藏着许多“甜蜜的毒药”。
上世纪七八十年代，Z国和M国度过了一段“蜜月期”，大到先进武器，小到各种民用产品，只要钱到位都不再是触不可及的奢望。
西方国家也表现得相当“慷慨”，连光刻机这样的尖端产品也愿意出售。
可以说，西方对国内的“慷慨”，究竟是一时的好意还是险恶的阴谋，其中的利害实在意味深长。
另一方面，国内光刻机发展恰巧遭遇瓶颈，被卡在193nm光源已有小二十年。
既然能够轻松获取，为什么还要费劲研发呢？彼时的Z国远不算富裕，两相对比，“买办思想”很快就占据了主流。
逆水行舟不进则退，Z国与第一梯队的距离越来越大，很快便彻底脱节。
其实在这个领域，相比国内与美、日、欧的差距，第一梯队内部的斗争要惨烈且残酷得多。
光刻机的原理，其实并不复杂，甚至在发在初期，其复杂程度甚至不如照相机；一些对光刻机有需求的企业并不向专业厂商购买，而是买来零件自己组装，如英特尔。
而最早的光刻机发展潮流，是由M国人领导的。
1961年，M国GCA公司研制出第一台接触式光刻机，成为光刻机产业的巨头。
1967年，在M国空军的支持下，珀金埃尔默仪器公司推出世界首台投影式光刻机Micralign100，一夜间将芯片良率提升了7倍。
1978年，GCA公司又推出步进式光刻机DSW4800，分辨率可达1微米。
虽然该型光刻机的单价高达45万美元，但各大企业仍趋之若鹜，根本不愁卖。至此，GCA公司进入全盛时期，在其引领下，M国光刻机产业如日中天，殊不知养虎为患，
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