们董事长说可以的，他在公司等你到来。”
“好的，谢谢。”
约一个小时后，壬总在董事长办公室见了沐阳。
“沐先生，好久不见。”壬总双手握上沐阳的手，非常恭敬。
沐阳笑了笑，与他握手说：“客气了，走吧，知道你心急，带你去看看我们的设备。”
“哈哈，没法，这老外把我们给逼急了。”壬总苦笑一下。
两人坐上未来01，一会后，沐阳带壬总来到光学实验楼，换上防尘服，进入三楼。
这层楼，就是光刻机实际室。
沐阳边说边说：“我们目前在组装第三台光刻机，组装好的两台等试机稳定后，就搬到圆晶厂开始批量生产。”
前几天，ebl光刻机样机出来并试制芯片成功，沐阳得到消息了，欣喜若狂，现在还有一股兴奋劲。
元旦购买技术，九个月就出样机，效率非常快。
能有这么高的效率，主要功臣就是金属3d增材设备和五轴联动数控加工中心，沐阳下发图纸后，一两周内所有结构框架都加工好了。
他所购买的技术图纸，避免了经验问题。
样机研制成功，整个项目组的科研人员都很激动。
一会后，沐阳站在一台已经组装好的光刻机前，他眼前这台光刻机，占地约十五平方。
“董事长，您来了。”试机的科研人员看到董事长，高兴打招呼。
“嗯。”沐阳微笑点头。
跟随旁边的壬总，他是见过光刻机的，看到眼前这台设备，他向沐阳看了眼：“沐先生，可以看吗？”
“当然可以，要不带你来干嘛。”
得到沐阳的同意，壬总才靠近设备，透过窗口，观察工作状态中的光刻机。
设备型号称为“xh-ebl01”，技术参数：
1.最小线宽：小于1nm
2.加速电压：5-500kv
3.电子束直径：小于0.5nm
4.套刻精度：1nm(mean+0.2σ)
5.拼接精度：1nm(mean+0.2σ)
6.加工晶圆尺寸：4-18英寸
7.描电镜分辨率：小于0.2nm
这台设备，可以制造1nm以下的芯片，但量产成本会比较高。
目前，量产7nm不成问题，量产3nm和5nm也不是问题。
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