28纳米光刻机。
28纳米已经是目前炎国国内光刻机的顶尖水平。
在目前全球光刻机市场中，ASML、佳能以及尼康是最大的三家供应商，他们占据了全球99%的市场份额。
佳能和尼康主要生产22纳米的“低端”DUV光刻机，而ASML大部分产品都是更高端的EUV光刻机。
DUV和EUV实际区别就是光源，DUV指“深紫外线”，EUV指“极深紫外线”，听名字就能感觉到EUV技术更加牛逼。
确实也是如此，DUV光刻机的光源波长为193纳米，EUV光源波长为13.5纳米，而且EUV光源并非地球上天然存在的光线，需要特定的技术和设备才能够制造出来的。
在光源波长越短，折射率越大，能量越大的原理下，光源波长为193纳米的DUV光源一般只能实现25纳米制程，I凭借工作台模式做到了10纳米，但后续再也无法突破10纳米。
太积电也强行用DUV光源生产过第一代7纳米芯片，但是是通过DUV多重曝光实现的，不但工艺复杂，良品率低，其实上所谓的7纳米还有很大水分，太积电也是在第二代7纳米芯片的时候就全面换成EUV光源了。
也就是说，DUV光源做做28纳米、56纳米的制程还行，但涉及7纳米、5纳米，DUV几乎没戏，只能靠EUV技术。
而现在全球范围内，能生产EUV光刻机的供应商，全球只有ASML一家！
毫不夸张的说，ASML凭借EUV技术彻底垄断了全球中高端光刻机市场，根据最新一年的销售额来看，ASML的光刻机占据91%的市场份额，尼康6%，佳能仅仅3%。
凤凰集团这台产自炎国沪市微电子（SMEE）的28纳米光刻机当然也只是DUV光源，不过哪怕是“低端”的DUV技术，也是非常难得了。
实际上，虽然目前沪市微电子厂已经实现28纳米光刻机量产，但一直受限于产能，每年产能也就两三台，在凤凰集团之前总共只有三家企业拿到了微电子生产的国产28纳米光刻机，凤凰算是在高领资本运作下，才顺利优先拿到28纳米光刻机。
胡来心里已经十分满足。
凤凰即将拥有了属于自己的28纳米光刻机，虽然制程不算太先进，但只要28纳米光刻机能成功安装生产，凤凰半导体就真正成为一家集设计、制造、封装测试到销售的垂直整合半导体公司！
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