严辉点了点头，带着研究员们调配好抛光液，然后重新进行了一次实验。
“平整度5.9nm RMS。”
看到这个结果，原本还有点小期待的严辉，不由露出一抹失望的神色。
但康驰却依然不为所动，又报出了一组抛光液配比，让他们重新进行第三次实验。
“平整度5.9nm RMS。”
5.9？
还是5.9？！
是巧合吗？
虽然5.9显然是远远不达标的，但严辉却似乎意识到了什么，有些惊讶地转头看向康驰。
“你……计算好的？”
“算是吧。”
康驰点了点头。
这下严辉彻底呆住了，
要知道，化学机械抛光的技术难点，除了抛光设备的硬件要达标之外，还要根据设备性能、硅片参数，来调配化学抛光液，以达到化学抛光和机械抛光的完美配合。
要想调试得好，首先就需要对设备了如指掌，其次这是丰富的抛光液调配经验。
但康驰仅仅只是通过一次实验演示，就能看似轻松地报出两组不同成分的抛光液，并在后续的实验中，达到同一数值的平整度……
这多少有点匪夷所思了吧？
哪怕是已经参与过无数次测试的严辉，在没有经过计算机模拟的情况下，也绝对做不到如此精准的控制，
估计误差至少得有个0.3nm RMS。
他有些难以置信地问道：“你到底是怎么做到的？”
“嗯，我也说不上来……可能是某种直觉吧，我这人对机械的东西，敏感度还挺高的。”
康驰思索了片刻，又接着说道，
“我估计伱这台抛光机，能稳定发挥的正常水平，应该就是3.0nm RMS左右，2.6nm RMS只是你们因为偶然因素才意外达到的，肯定不会超过三次。”
严辉再次愣了愣，显然是被康驰猜中了。
“确实，只有一次……”
康驰本来还想说点什么，结果肚子都已经饿得咕咕叫了，
看了看时间，发现三轮实验过后，竟然已经不知不觉都到了晚上八点。
“不好意思，一个没注意都这这么晚了……大家赶紧收拾收拾，先去吃饭吧，今天辛苦你们了。”
“嗯。”严辉点了点头道，“那大家吃完饭，九点再回来继续。”
…。。