“怎么可能！”
各大晶圆厂难以置信。
阿斯麦也同样感到了匪夷所思。
安布雷拉设计出14nm的芯片是没有任何人怀疑。
现在大家用的EDA可都是他们优化的。
可特么前面量产20nm已经够夸张了，现在14nm都出来了？
三年前就有了20nm级别的工艺！到现在才正式突破14nm，这其中可并不单单造出来就行了，还有着良品率等一系列问题来保证不会亏本，来保证有盈利！
这其中要攻克的技术，要克服的难点只有他们这些一路走来的晶圆厂才心中清楚！
而且看样子是已经开始量产并备货了！
怎么可能这么快？
前面20nm的产量就很夸张了？为何能这样？
随着安布雷拉的DUV光刻机逐渐到货后，各方面也都开始发现了原因。
看到还是干式光刻机其实他们都有点懵。
本以为安布雷拉是也突破了浸润光刻法才追上的，结果人家浸润的技术都还没用出来！
纯粹靠着强大的镜头硬生生的完成了弯道追赶。
光源波长和各种参数都是摆在这里的，他们能够轻易算出这台光刻机极限精度达不到阿斯麦的水平。
多次曝光也很难达到7nm极限。
可是……
“感觉这台光刻机的良品率好高啊，我们还只是随便组了一下试试，调试都没用多久，良品率方面竟然就不比正常生产线要差了。”
积电的工程师满脸惊叹。
“是啊，就性价比来说，比目前阿斯麦的光刻机还要好，而且良品率方面恐怕能一直保持领先，虽说阿斯麦的光刻机极限能更高，但现在不还没到这程度么……”
相同的事也发生在测试的各处。
极限差点，但更稳定，良品率高，效率高，产能高！
这就是安布雷拉满足了供货的原因。
出货效率超过阿斯麦DUA光刻机一倍多！
这也是能一边生产20nm芯片，一边开始备货14nm的原因！
甚至可以预见，哪怕以后到了10nm的程度，也依然难不住他们，大概率安布雷拉自己的晶圆厂可能还能更快的达到这工艺。
这简直是难以置信！
一瞬间抹平了差距，硬生生跻身第一梯队。
收购光刻机技术和晶圆厂才多
…。。