接后台锁了光刻机。
陈平江倒不担心，一旦搞到那种程度，ASML也必然遭到报复。
ASML也不傻，总想绕开老美，卖光刻机过来，更不想因此彻底失去大陆市场。
所以说自研才是王道。
…………
这次随着张汝京和梁孟松一起来的，还有一些未来在华芯担任重要岗位的骨干。
陈平江陪的这些这群人当天晚上好好喝了一顿。
第二天上午八点，众人就坐车往临浦赶去。
这次的奠基仪式规格相当高，沪上的一二把手也会亲临现场。
陈平江三人坐在打头的第1辆mpv里，聊起了未来的打算。
张老道：“我认为我们应该先从IBM那里通过技术转移或者合作的方式拿到40纳米和32纳米的授权，然后把研发重心放在32纳米上，尽早实现40纳米的量产，这样既能够积累客源，也能够减少公司的运营压力。”
陈平江点点头，转而问梁老：“您怎么看？”
梁孟松笑着道：“老张和我的想法一样。”
“28纳米不尝试下吗？”陈平江好奇问。
“呃……”二老你看看我，我看看你，苦笑一声。
“我们能在最短时间内突破32纳米就不错了，至于28纳米想都不敢想，目前应该也只有台积电，在研发上比较领先，有望今年量产。”
张老也道：“主要是太难了。”
在这个时间节点上28纳米就是最先进的，是这个年代的先进制程。
28纳米就是一个大节点。与40纳米工艺相比，28纳米栅密度更高、晶体管的速度提升了约50%，每次开关时的能耗则减小了50%。
陈平江在脑海里想了想措辞：“我之前有了解过曝光技术。当时很好奇为什么不通过多次曝光来提升光刻的效率和精确度。”
多重曝光即用多个掩膜板，在同一块晶圆上进行多次光刻操作，将不同的图案叠加在一起，形成更细微的图案。这相当于用多个胶片拼接出一个更精细的图像。
梁老笑着道：“看来平江你的确了解过，不过你了解的可能不全面，行业里面倒是听过有两次曝光的，但多次的话，估计还真没有。不是说做不到，而是生产出来的芯片良率过低，成本过高，最终得不偿失。假设我们一次曝光的良率和台积电相同，都能达到90%，经过四次曝光后的芯片良率为0.9×0.9×0.9×0.9
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