两年研究的进展很快。我知道的是去年已经突破了两微米技术，正在搞1.5微米。
我们在技术上突破的越快，巴黎那边的限.制就会放宽的越快。”。
前世在84年这个时候，国内半导体研制所能达到的蕞小精度是5微米水平，国际上已经达到了1微米以下精度。1985年巴黎的那个委员会规定5微米以下的超大规模集成电路的设备、技术和产品都是要严格对华夏禁限的。
国内突破三微米水平，进入超大规模集成电路时代是在1987年。1989年将对华夏的半导体技术禁限做了更改，3微米以上的技术就不再对华夏禁了，但是3微米以下、尤其是2微米以下的技术对华夏仍然是严格限.制的。
内地跨上一微米台阶是在1991年。此时国际上的微电子研发水平可以达到0.18微米。
前世的80年代初，内地和国际的差距大概为6年，即集成度相差8倍。
这一世内地在82年下半年得到了天上掉下来的许多馅饼，其中就有芯片技术和设备，这里面甚至有暗中拍的上万小时的日本工程师的操作的录像，这些都是芯片产业核心的东西。芯片产业蕞终比拼的就是制程工艺。
这些获得的珍贵的技术资料，大大缩短了内地微电子技术的发展时间。
季宇宁估计如果今年能够突破1.5微米技术，那么内地和国际上的差距，就会缩短到两年左右的时间。