身前的研究团队人员也已经多达40多人。
随着芯片和光刻机的项目不断推进，许青山在取得了各领域的进展之后，也主动向国家提出了自己的想法和情况，也得到了当局的最高支持。
眼前这40余人的团队规格可高得可怕。
不管是相关领域经验丰富、正值壮年的工程院院士，还是崭露头角、思维活跃的杰青教授，来到了这个基地里，短时间内就出不去了，而且还需要全权听从许青山的安排。
为了能够突破欧美的技术，封锁许青山，用各种各样的小技术组成了全新的光刻机技术全集。
首先是光源技术的突破。
许青山团队不仅研究出了基于全固态激光技术的深紫外光系统，波长达到193nm，能够支持多重曝光实现14nm以下的芯片制造，而且14纳米还远远不是这一项被命名为duv系统的极限，目前团队还能继续试验和下探。
目前duv系统能够制造出14nm纳米的芯片，是因为其他领域的技术发展受到了限制。
但不管怎么说，许青山现在可以骄傲的对着全世界说到他们的光刻机技术和芯片制成工艺，就是全球最先进的。
虽然有着借用了别人早就搭好的梯子的操作，但许青山并不在意那些东西。
他只在意自己时时切切，能够为国家为社会做到的事情。
或许对于西方国家来说，他就像是普罗米修斯从他们的技术封锁中盗窃走了他们成熟的光刻机技术和芯片制造技术。
但对于华夏来说，许青山就是毋庸置疑的伟人。
短短一年的时间，许青山就让华夏芯片几乎是可以忽略不计的零基础到位列第一，这种奇迹对于绝大多数人来说都是不可置信的。
要知道如果回顾一下芯片制造企业的发展简史就会发现。
许青山踏出的这一步，意义极为重大。
2001年的时候，世界领先的芯片制成工艺是130纳米，那时候全球销售的最为火热的奔腾三处理器就是标准的130纳米工艺。
而之后到了2004年就是90纳米工艺的提升，那一年还有很多家芯片厂商能做得出来90纳米工艺，就像是英特尔、德州仪器、IBM，还有联电和台积电。
之后的芯片制造工艺飞速的发展一直到了今年年初的时候，世界上主流的制成工艺也已经发展到了22纳米。
而在三年之后，当全球的制成工艺进入到了14纳米的时
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