么惊讶吗？”顾鸣有些莫名其妙地看向桌上的稿纸。
这不看不要紧，一看他也吃了一惊：“这，这是刻蚀工艺？”
只见第一张纸上写着：
“采用部分或完全电离的中性气体，通常包括电子、正负离子、中性粒子（包括激发态和基态的中性粒子）、自由基以及光子等……”
“这些气体在以等离子体形式存在时，具备两个特点，一是化学活性比常态下更加活跃……”
“二是可以利用电场对等离子体进行引导和加速，使其具备一定的能量，当其轰击被刻蚀物的表面时，会将被刻蚀物材料的原子击出，从而达到利用物理上的能量转移来实现刻蚀的目的。”
下面还有详细的图例展示。
三人将稿纸一张张摊开，发现上面不仅记载了刻蚀工艺的流程，甚至连离注入都写了小半。
虽然不能说完全照着做就能实现刻蚀工艺和离子注入工艺，但是几乎一下子把他们需要验证的错误选项排除了大半。
他们的目光不由陷入呆滞当中。
不多时，回去休息的专家和教授们回到实验室，看见三人的表情，好奇地看向稿纸，目光同样变得呆滞起来。
“这，这到底是谁写的？”良久，陆骞嘴里终于憋出一个字。
他们苦熬了许久都没搞出来，结果过了一晚上，竟然有人直接给弄出来了！
黄新华看着稿纸上的笔记，目光微微一动，道：“你们不觉得，这个笔迹，还有这每句开头一定要加我推断的格式，很像一个人吗？”
这么一说，答案呼之欲出，在场的专家教授嘴里都不由脱口而出：“李暮！”
黄新华微微颔首，道：“恐怕也只有他，才能有这个天分。”
闻言，顾鸣、陆骞等一众教授不由连连点头。
“既然有了这份方案，我觉得，我们离攻克集成电路的四项关键工艺已经很近了。”黄新华深吸一口气，环视了实验室内的所有教授一眼。
他继续道：“我认为，我们有必要和半导体研究所那边联系，进行联合实验。”
……
半导体研究所。
王绶觉正在实验室内，检查最近的研究进度。
有着李暮方案的帮助，他们所有研究几乎都在这个大框架下进行。
起先他还有点担心，万一走错路，可能会浪费大量的人力物力和财力。
但越研究到后面，他越发现，前方
…。。